G-Furnace
G-Furnace
G-Furnace
商品編號:GF200D / GF200C
✽Layout: I Type or L Type
✽Load Port: Open Cassette or SMIF Indexer
✽Wafer Size: 150mm or 200mm
✽AP Furnace and LP Furnace
✽Heater Temp Range: High Temp,
Middle Temp, Low Temp
✽150 pcs Product Wafer
✽Load Port: Open Cassette or SMIF Indexer
✽Wafer Size: 150mm or 200mm
✽AP Furnace and LP Furnace
✽Heater Temp Range: High Temp,
Middle Temp, Low Temp
✽150 pcs Product Wafer
✽G Furnace為由靖洋科技於2020年全新製造的垂直式爐管, 可適用於150mm或200mm晶圓。
✽採用EtherCAT連接各模組之間的通訊,不僅速度更快,也相對減少電路板控制的設計,
以利工程維護人員能更快的處理異常排除。可有效降低MTTR。
✽能生產的製程有氧化層(Gate Oxide/Wet Oxide/ Dry Oxide/Trans-LC Oxide), 高溫退火(Drive In/Anneal),
與低溫回火(Alloy),與低壓沉積(LPCVD: Nitride, POLY, DPOLY, TEOS)及光阻烘烤(PIQ,SOG)。
✽提供成熟製程的機台相關經驗,亦可與產業合作共同解決特殊製程的應用與開發。
✽採用EtherCAT連接各模組之間的通訊,不僅速度更快,也相對減少電路板控制的設計,
以利工程維護人員能更快的處理異常排除。可有效降低MTTR。
✽能生產的製程有氧化層(Gate Oxide/Wet Oxide/ Dry Oxide/Trans-LC Oxide), 高溫退火(Drive In/Anneal),
與低溫回火(Alloy),與低壓沉積(LPCVD: Nitride, POLY, DPOLY, TEOS)及光阻烘烤(PIQ,SOG)。
✽提供成熟製程的機台相關經驗,亦可與產業合作共同解決特殊製程的應用與開發。