G-Furnace
商品编号：GF200D / GF200C
✽Layout: I Type or L Type
✽Load Port: Open Cassette or SMIF Indexer
✽Wafer Size: 150mm or 200mm
✽AP Furnace and LP Furnace
✽Heater Temp Range: High Temp,
Middle Temp, Low Temp
✽150 pcs Product Wafer
✽Load Port: Open Cassette or SMIF Indexer
✽Wafer Size: 150mm or 200mm
✽AP Furnace and LP Furnace
✽Heater Temp Range: High Temp,
Middle Temp, Low Temp
✽150 pcs Product Wafer
✽G Furnace为由靖洋科技于2020年全新制造的垂直式炉管, 可适用于150mm或200mm晶圆。
✽採用EtherCAT连接各模组之间的通讯，不仅速度更快，也相对减少电路板控制的设计，
以利工程维护人员能更快的处理异常排除。可有效降低MTTR。
✽能生产的制程有氧化层(Gate Oxide/Wet Oxide/ Dry Oxide/Trans-LC Oxide), 高温退火(Drive In/Anneal),
与低温回火(Alloy),与低压沉积(LPCVD: Nitride, POLY, DPOLY, TEOS)及光阻烘烤(PIQ,SOG)。
✽提供成熟制程的机台相关经验，亦可与产业合作共同解决特殊制程的应用与开发。
✽採用EtherCAT连接各模组之间的通讯，不仅速度更快，也相对减少电路板控制的设计，
以利工程维护人员能更快的处理异常排除。可有效降低MTTR。
✽能生产的制程有氧化层(Gate Oxide/Wet Oxide/ Dry Oxide/Trans-LC Oxide), 高温退火(Drive In/Anneal),
与低温回火(Alloy),与低压沉积(LPCVD: Nitride, POLY, DPOLY, TEOS)及光阻烘烤(PIQ,SOG)。
✽提供成熟制程的机台相关经验，亦可与产业合作共同解决特殊制程的应用与开发。
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拆机
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装机
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到场服务
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PM服务
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电话支援
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故障排除
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谘询顾问
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教育训练
